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Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.

Name: Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
Creator: Presidencia de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas, M.P.
Published: 2025-05-23
License: https://ted.europa.eu/en/simap/legal-notice

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Aanbestedende dienst: Presidencia de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas, M.P.
Opdrachtnemers: Photon Export Thin Films & Patents SL
Opdrachtwaarde: € 679.990
Ontvangen inschrijvingen: 2
Gepubliceerd: 23 mei 2025
Gunning: 20 mei 2025
Start van de opdracht: 20 mei 2025
Einde van de opdracht: 18 sep 2025geschat
Sector: Laboratorium- en optische apparatuur
Regio: Barcelona
Bron: Oorspronkelijke aankondiging op TED (337724-2025)

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