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Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
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- Titulaires
- Photon Export Thin Films & Patents SL
- Montant du marché
- 679 990 €
- Offres reçues
- 2
- Publié le
- 23 mai 2025
- Attribution
- 20 mai 2025
- Début d'exécution
- 20 mai 2025
- Fin du marché
- 18 sept. 2025estimée
- Région
- Barcelona