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Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.

Name: Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
Creator: Presidencia de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas, M.P.
Published: 2025-05-23
License: https://ted.europa.eu/en/simap/legal-notice

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Zamawiający: Presidencia de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas, M.P.
Wykonawcy: Photon Export Thin Films & Patents SL
Wartość zamówienia: 679 990 €
Złożone oferty: 2
Opublikowano: 23 maj 2025
Udzielenie zamówienia: 20 maj 2025
Początek umowy: 20 maj 2025
Koniec umowy: 18 wrz 2025szacowana
Branża: Sprzęt laboratoryjny i optyczny
Region: Barcelona
Źródło: Oryginalne ogłoszenie w TED (337724-2025)

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