Zuschlag

Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.

Name: Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
Creator: Presidencia de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas, M.P.
Published: 2025-05-23
License: https://ted.europa.eu/en/simap/legal-notice

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Auftraggeber: Presidencia de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas, M.P.
Auftragnehmer: Photon Export Thin Films & Patents SL
Auftragswert: 679.990 €
Angebote: 2
Veröffentlicht: 23. Mai 2025
Zuschlag: 20. Mai 2025
Vertragsbeginn: 20. Mai 2025
Vertragsende: 18. Sept. 2025geschätzt
Branche: Laborgeräte und optische Geräte
Region: Barcelona
Quelle: Originalbekanntmachung bei TED (337724-2025)

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