Zuschlag
Suministro e instalación de un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) de capas dieléctricas, destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
Diesen Eintrag verfolgenKostenloses Konto — Benachrichtigung, sobald hier ein Vertrag ausläuft.
- Auftragnehmer
- Oxford Instruments GmbH
- Auftragswert
- 809.273 €
- Angebote
- 1
- Veröffentlicht
- 13. Nov. 2025
- Zuschlag
- 12. Nov. 2025
- Vertragsbeginn
- 12. Nov. 2025
- Vertragsende
- 13. März 2026geschätzt
- Region
- Barcelona